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我國在近幾年來發(fā)展迅速，各類高新產業(yè)迎來蓬勃發(fā)展的階段，在人工智能、5G通信技術、航空航天等等領域都足以與國際一流水平比肩，甚至在某些方面已經超越歐美一些西方國家。然而，隨著老美對我國的半導體產業(yè)實行了“斷供”之后，我國半導體產業(yè)“缺芯少魂”的問題也暴露出來。

芯片產業(yè)作為高新產業(yè)必不可少的運行核心，已經成為各國爭相發(fā)展的目標。當今的科技之爭，可以說誰能最先掌握芯片產業(yè)的主導權，誰就把控住當今科技發(fā)展的命脈。

老美除了在芯片代工上對我國實行“斷供”之外，在制造芯片所必需的光刻設備上老美也對我國實行了出貨限制。

在老美的一系列封鎖下，不僅臺積電無法為我們提供芯片代工，ASML（阿斯麥）也無法對我們自由出貨。

芯片代工被限制我們可以自己生產，但生產芯片所必要的光刻設備被攔截，那就真是巧婦難為無米之炊了。

要知道，作為全球最頂尖的光刻設備制造商，ASML公司占全球光刻設備市場份額的75%以上，EUV光刻機的制造更是由于其供應鏈的特殊性形成了壟斷地位。是的，全球只有ASML能制造出EUV光刻機。

早在三年前，中芯國際就曾斥資10億向ASML全款訂購了一臺EUV光刻機，但由于老美修改了“芯片規(guī)則”，這EUV臺光刻機至今為止仍未能在我國境內落地。

我國如今已經成為全球規(guī)模最大的芯片消費市場，我國的芯片需求占全球50％以上，集成電路進口總額占我國進口總額高達16%，僅在去年一年我國芯片進口量就多達6354.8億枚，耗資近4400億美元，折合成人民幣約29550億元，這個數字令人咂舌。

我國在今年第一季度占ASML的出貨占比升至34%，成為第一大市場，在第一季度ASML向我國出貨了23臺光刻機。雖然最先進的EUV無法向我國出貨，但是DUV光刻機還是可以自由出貨的。

國產光刻再進一步取得突破

對于我國半導體產業(yè)所面臨的困境，我國多家企業(yè)意識到自研的重要性，紛紛加大在半導體領域的布局。如華為在芯片被斷供后就宣布全面進入半導體領域，旗下子公司哈勃就投資了許多國內的半導體相關企業(yè)。

此外，自研出芯片堆疊技術，并公布了“芯片堆疊封裝結構及其封裝方法、電子設備”專利。

近日我國光刻設備再傳捷報，根據浙江省稅務局網站消息，浙江啟爾機電技術有限公司在浸潤系統(tǒng)上進一步取得了技術突破。其高端集成電路裝備已經迭代至第8代，能夠實現(xiàn)對液體溫度的高精度控制，將誤差控制在正負0.001度以內。

自04年開始，啟爾機電研發(fā)團隊對光刻機浸液系統(tǒng)的基礎研究和技術攻關已經進行了十余年，掌握與光刻機浸液系統(tǒng)直接相關的發(fā)明專利56項。

光刻機被稱為現(xiàn)代光學工業(yè)之花，制造工藝相當復雜，而浸液系統(tǒng)就是浸沒式光刻機的四大核心部件之一，這項技術在很長時間以來一直為少數國際巨頭企業(yè)所掌握，如今啟爾機電的技術突破可以說進一步為我們的光刻機國產化打下了基礎。

我國光刻機的突破進行到哪步了

要實現(xiàn)光刻機國產化，主要看曝光光學系統(tǒng)、激光器、物鏡、雙工件臺、浸液系統(tǒng)以及高速高精度檢測系統(tǒng)這六大核心部件和技術上是否突破。

除了啟爾機電這次的浸液系統(tǒng)，我國在光刻核心技術上已經實現(xiàn)了多項關鍵性突破，分別是國望光學的投影物鏡、國科精密的曝光光學系統(tǒng)、華卓精科的雙工件臺、東方晶源高速高精度檢測系統(tǒng)以及科益宏源的ArF準分子激光器。

其中國望光學光刻機曝光系統(tǒng)生產基地項目也已經建設完成，宣布啟動設備導入階段，預計在2023 年投入運行，為28nm 及以下節(jié)點極大規(guī)模 IC 制造投影光刻機曝光光學系統(tǒng)產品的研發(fā)、設計與批量生產供貨。

寫在最后

如今我們在關鍵的技術領域基本已經突破，剩下的就是磨合問題，相信在國家的扶持和各科研機構以及企業(yè)的共同努力下，我們的國產光刻機要突圍很快就能實現(xiàn)。

對于我們的國產光刻機即將突圍，大家有何想法，覺得我們的國產光刻機何時能推出商用，歡迎在評論區(qū)留下您的觀點一起交流。