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隨著電子產(chǎn)業(yè)的迅猛發(fā)展，全球市場對于芯片的需求量也迎來強勁的增長，在這樣的情況下，為了緩解芯片供應緊張的局面，很多國家地區(qū)都加大了在半導體產(chǎn)業(yè)的布局。我國由于在半導體領域起步較晚，國內(nèi)芯片很大程度上都依賴進口。

但隨著華為的事情發(fā)生，我國芯片被“斷供”，我國便加快了芯片國產(chǎn)化進程，但此時，高端光刻機的缺失又成為制約我國芯片制程的一個關鍵點。

大家知道，隨著美國幾次三番修改“芯片規(guī)則”，ASML便無法對我們自由出貨EUV光刻機。EUV光刻機作為7nm以下高端制程芯片必不可少的制造設備，沒有它想要量產(chǎn)高精密度芯片基本上是不可能實現(xiàn)的。

作為全球最大的半導體設備制造商，ASML在全球中高端光刻設備市場上份額占比高達90%以上，由于其供應鏈的特殊性，在EUV光刻市場中更是形成了壟斷地位。

ASML的EUV光刻機制造工藝復雜，很多零部件都是和供應商一起研發(fā)出來的，連ASML自己也只掌握了18%的技術專利，也是因此，在美國修改了“芯片規(guī)則”之后，使用了部分美國技術的ASML在EUV光刻機的出貨自由上無法自己作出決定。

我國半導體企業(yè)中芯國際為了緩解國內(nèi)芯片緊張的現(xiàn)狀就曾耗資十億向ASML全款訂購了一臺EUV光刻機，但直到現(xiàn)在這臺光刻機仍無法在我國境內(nèi)落地。

此外，EUV光刻機也不是說生產(chǎn)便能生產(chǎn)的，由于產(chǎn)能有限，一般都是有限供應給臺積電、英特爾、三星這樣的國際大廠，在這些半導體廠商擴大產(chǎn)線規(guī)模后，EUV光刻機更是緊俏，不是說買就能買的。

此前三星電子公司董事李在镕兩次到訪ASML，就是尋求更多EUV光刻機的出貨量。

ASML首次對外承認，EUV光刻機可能供過于求

為了緩解全球芯片的緊缺，ASML也加快了光刻機的出貨速度，根據(jù)ASML 在2022第一季度財務會議上發(fā)布的消息，預計在今年實現(xiàn)出貨55臺EUV光刻機，在2025年實現(xiàn)90臺EUV光刻機的出貨。

但同時，ASML也承認，90臺EUV光刻機可能會超過2025年的實際需求。根據(jù)ASML在第一季度披露的財報數(shù)據(jù)顯示，在今年第一季度EUV光刻機的出貨僅有三臺。此外，ASML最新研發(fā)的下一代high NA-EUV光刻機目前也只收到了六臺的訂單。

但ASML表示，這是為了實現(xiàn)2030年1萬億美元半導體行業(yè)需求所做出的巨大努力。

但事實上，誰都明白，明知道會供過于求一般情況下都是縮減產(chǎn)量，而且一臺EUV光刻機造價不菲，虧本生意誰都不會做。因此就有業(yè)界猜測，這是不是在為了給大陸市場供貨做準備。

之所以作出如此猜測原因有三

首先，如今我國已經(jīng)成為全球最大的半導體消費市場，而且隨著國家的重視，更多企業(yè)進入半導體領域，光是在去年一年我國新增的半導體企業(yè)就增加了4.74萬家，同比增長105.06%，在全球20家增速最快的芯片企業(yè)中，我國企業(yè)就占了19家，與上一年的8家相比增長了137%。

隨著我國半導體相關企業(yè)的增加，我國芯片產(chǎn)能也會隨之增加，對光刻機的需求也就越來越大。

根據(jù)ASML第一季度的營收情況來看，總營收額為35.34億歐元，毛利率為49%，與上個季度54.2%的毛利率相比下滑了19%。

ASML在第一季度向我國大陸市場出貨的DUV光刻機就有23臺，而且ASML在我國的市場份額已經(jīng)超過美韓等國家，市場份額占比達到34%。我國已經(jīng)超越美國成為ASML的第三大市場。

從這組數(shù)據(jù)來看，毫無疑問，面對我國如此廣闊的市場前景，ASML是不愿意放棄的。

其次，隨著中科院等科研機構(gòu)和上海微電子、長春光機研究所等光刻機廠商的共同努力，近兩年來，國產(chǎn)光刻機實現(xiàn)了多方面的技術突破。

雖然目前國內(nèi)光刻機的技術和生產(chǎn)能力不能滿足國內(nèi)芯片市場的需求，但近年來國產(chǎn)化替代率的進步速度和提高也是有目共睹的。例如，據(jù)報道，由上海微電子有限公司自研的國產(chǎn)DUV光刻機將于明年正式推出。

在芯片工藝制程上，中芯國際也已經(jīng)掌握了7nm制程，目前已經(jīng)進入風險試產(chǎn)，在成熟工藝上，14nm、28nm制程更是已經(jīng)能滿足一部分國內(nèi)生產(chǎn)需求。

ASML首席執(zhí)行官 Peter Wennink就多次公開表示：限制對中國EUV光刻機的出貨毫無益處，他們將在3到5年內(nèi)掌握這項技術，到時候ASML的光刻機很可能就被淘汰了。

最后，ASML的 EUV光刻機實際上有一個很大的缺點，那就是耗電量極大。臺積電此前就出現(xiàn)過電力不足的問題，但當時很多人都覺得這是臺積電的問題，事實上，這真不賴臺積電。

隨著近期中國臺灣省的電費正在急劇上漲，臺積電每年要多交40億的電費，現(xiàn)在臺積電每年要交的電費已經(jīng)超過300億。

只不過在之前，由于EUV光刻機的不可替代性，這個問題很少被人注意到，可以說即使注意到了也沒辦法，但以后就說不準了。

寫在最后

現(xiàn)在很多地區(qū)都因為老美的芯片禁令正在加大光刻設備和光刻技術的自研，如鎧俠和佳能就聯(lián)合研發(fā)出納米壓印微影技術(NIL)，目前已經(jīng)能實現(xiàn)15nm制程的量產(chǎn)，不使用EUV光刻機最高能制程能達到5nm。

此外，堆疊芯片等新的技術也正在出現(xiàn)，EUV光刻機最后被別的技術取代的結(jié)局是可以預見的，ASML也開始有危機感了。